Intel 14A缺陷密度的下降速度比公司预期的要快，

Intel 14A缺陷密度的下降速度比公司预期的要快，。

技术工业

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半导体

以

安东·希洛夫

2026年8月28日 （中文（简体） ).

英特尔首席财务官大卫·辛斯纳在一次大会上吹嘘

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（图像信用：英特尔）

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随着缺陷密度的下降，英特尔对其14A(1.4nm-class)制造过程的信心正在上升。 公司自己的设计团队正在开发将使用该技术的产品，而外部客户现在正在询问大约14A卷的英特尔可以拿到这些产品，据英特尔公司首席财务官大卫·津斯纳(David Zinsner)在德特克银行2026年技术大会上的讲话。 CFO更是说出14A是英特尔自2010年代22nm技术以来最好的工艺。 但是，虽然评论是乐观的，但有一个警告。

"当你看出缺陷密度时，14A比我们14A的目标曲线跟踪得更好",津斯纳在德意志银行2026年技术会议上说。 "它也比以前的任何节点都做得更好，从我们如何迅速地消除缺陷来看。 事实上，我们从22nm开始就没有见过这种表演，这可以说是Intel推出过的最佳节点之一".

（原文共 30 张图片，此处展示前 3 张，更多图片请前往原文查看）

（编译自 Tom's Hardware；原文 https://www.tomshardware.com/tech-industry/semiconductors/intel-14a-defect-density-is-dropping-faster-than-the-company-expected-we-have-not-seen-this-performance-since-22nm-says-cfo，编译转述，非原文转载）